株式会社オプトニクス
栃木県足利市富士見町26
TEL：0284-43-3611 FAX：0284-43-0707
株式会社オプトニクス
| 1986年 4月 | 株式会社オプトニクス精密 設立 |
|---|---|
| 1989年 3月 | 磁性体薄膜スペーサー完成 |
| 1993年 1月 | 高張メッシュ完成 |
| 1994年10月 | 金属表面の撥水処理技術確立 |
| 1995年 5月 | 技術企画部を設立 |
| 1995年 7月 | 高アスペクト比メッシュ完成 |
| 1996年 2月 | 厚膜微細回路形成技術確立 |
| 1996年 3月 | 新社屋完成・本社および工場部門移動 |
| 1996年 5月 | 開発センター設立（旧工場） |
| 1996年 5月 | ダイヤモンドコンポジット処理技術確立 |
| 1996年 7月 | 創造法により認定企業となる |
| 1998年10月 | マイクロ金型に関しNEDOに採択される |
| 1999年 4月 | X線利用技術およびX線マスク製造技術の確立 |
| 1999年 4月 | 独・カールスルーエ原子核研究所 共同研究契約 |
| 2000年 1月 | マイクロプローブ製造技術の確立 |
| 2000年 5月 | 電池安全弁特許取得 |
| 2001年 1月 | 燃料噴射ノズル製作技術確立 |
| 2002年 5月 | 日本塑性加工学会賞 受賞 |
| 2002年 7月 | 有機EL用蒸着シャドウマスク製造技術の確立 |
| 2002年10月 | 14年度関東地方発明表彰 中小企業庁長官賞 受賞 |
| 2003年 8月 | 栃木県フロンティア企業認定 |
| 2003年10月 | 超高弾性マイクロプローブ製造技術の確立 |
| 2003年11月 | 超低熱膨張蒸着シャドウマスク製造技術の確立 |
| 2004年4月 | 表面ナノ構造透明電極基板の開発に関しNEDOに採択される |
| 2004年7月 | 超微細コンタクトプローブの製造技術の確立 |
| 2005年1月 | X線マスクに関する特許取得 |
| 2006年4月 | 経済産業省よりモノ作り中小企業300社に選定される |
| 2006年5月 | ISO9001 認証取得 |
| 2008年1月 | メッシュ型ネブライザ素子技術確立・販売開始 |
| 2008年11月 | 本社工場拡張竣工 |
| 2008年11月 | EDLC・Li電池ガス透過型安全弁（第2世代安全弁）技術確立 |
| 2009年2月 | オプトニクス・コーリア設立 |
| 2009年6月 | 次世代X線マスク技術の確立（HARMST2009） |
| 2009年8月 | 東北大学と高強度電鋳材料の特性試験システム開発に関し共同研究開始 |
| 2009年8月 | 立命館大学とX線リソグラフィーマスクの高度化に関し共同研究開始 |
| 2009年10月 | ものづくり中小企業製品開発において2件の支援事業に採択される |
| 2009年11月 | 兵庫県立大学とLIGAプロセスの高度化に関し共同研究開始 |
| 2010年4月 | 超低熱膨張メタルマスク基本特許取得 |
| 2010年4月 | EDLC・Li電池自己復帰型安全弁（第3世代安全弁）技術確立 |
| 2010年6月 | Φ30μm垂直プローブ製造技術確立 |
| 2010年11月 | 高精度篩（ステルスシーブ®）の製造技術確立と高速分級装置の開発完了・販売開始 |